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    真空碳管爐的技術參數和結構說明

  • 發布日期:2022-02-16      瀏覽次數:54
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        真空碳管爐適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備。
       
        一、真空碳管爐的技術參數
       
        1.設備名稱:真空感應熔煉爐
       
        2.冷態極限真空度:5×10﹣3Pa
       
        3.額定溫度:1700℃
       
        4.額定功率:15KW
       
        5.;坩堝容量:100g~500g(熔液)
       
        6.壓升率:≤2Pa/h
       
        7.中頻電源:IGBT
       
        二、真空碳管爐的結構說明
       
        本產品由爐蓋、爐體、回轉機構、澆注裝置、真空系統及高頻電源控制系統等組成。
       
        1、爐體:為全不銹鋼結構。爐殼采用雙層水冷結構,保證爐殼溫度不超過50℃。爐蓋打開方式為手動,并加有鎖緊裝置,爐蓋上設有觀察孔及屏蔽等。
       
        2、回轉機構:與爐體用法蘭連接,感應線圈由銅管繞成螺旋形從爐體引出,采用威爾遜密封,密封可靠。
       
        3、澆注裝置:在坩堝旁邊從爐體內生一平臺,上面放置錠模,料熔煉好以后轉動手柄,將坩堝內的料傾倒在錠模內。
       
        4、真空系統:采用二級泵,油擴散泵(或分子泵)與直聯泵。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。
       
        5、電源:電源采用IGBT進口功率器件,更加集成化小型化,有效輸出功率達到90%以上,省電節能,比傳統可控硅中頻節能60%!,電氣系統設有過流、過壓返饋及保護電路。
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